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本の内容 トップ：本の紹介、書評 第１章：液晶ディスプレイの発展と商品化 第２章：薄膜ＳＯＩ基板技術――実用化へのみちのり 第３章：ＤＮＡチップの誕生とブレークスルー 第４章：Ｌｉｎｕｘはなぜ成功したのか 液晶ディスプレイ、薄膜ＳＯＩ基板技術、ＤＮＡチップ、Ｌｉｎｕｘの開発から商品化、また成功にいたるまでのプロセスを徹底調査しまとめ、技術開発がなぜ成功したのか、その要因を探る。 第２章　薄膜ＳＯＩ基礎技術−実用化へのみちのり 相崎尚昭　（プログラムオフィサー）

アブストラクト   薄膜ＳＯＩ (Silicon On Insulator) 基板は、シリコン半導体素子の高性能化にとって理想的基板構造であり、 高耐圧化や高性能化、低消費電力化などが実現できる。   しかし、これまでに開発されたＳＯＳ基板 (Silicon On Sapphire) や貼り合わせ基板は、いずれも、コスト、結晶性、膜厚制御などの総合性能が十分ではなく、特殊な用途で実用化されているにすぎない。   一方、近年、微細化によって進められてきたシリコンＬＳＩの高性能化が頭打ちになるという予測が共通の認識になってきて薄膜ＳＯＩ基板への期待が大きくなってきた。   コスト、結晶性および膜厚制御のいずれの面でも優れており、このような期待に応えることのできる実用化レベルの薄膜ＳＯＩ基板技術としてＳＩＭＯＸ、ＳｍａｒｔＣｕｔ、ＥＬＴＲＡＮの３種類の技術について、その開発経過と実用化の現状を調査し、開発の成功要因をまとめた。   これまでに、薄膜ＳＯＩ基板を用いたハイエンドマイクロプロセッサや時計用ＬＳＩなどが商品化されているが、今後は、高速化、 低消費電力化が特に重要視される分野から順次採用が進み、広範な応用分野において薄膜ＳＯＩ基板の採用が広まっていくものと考えられる。